二氧化铪(分子式：HfO2)      
品类 主要尺寸  颜色 纯度 包装 保存方式
晶体 颗粒 1-3 mm；3-5 mm 透明 99.99％ 1公斤/袋 避光避酸干燥保存
烧结 压片 Ф10mm或颗粒 白色   
产品参数:      
CAS编号 密度（g/cm3） 熔点(℃) 折射率(550nm) 透明波度(μm) 蒸发源 
12055-23-1 9.7 2812℃ n=2 0.2～9μ B(W),E 
用途 UV增透膜，干涉膜;适于电子枪蒸发，成膜致密稳定。紫外波段的优良材料。     
备注 规格可根据具体要求定制     
氧化铪，二氧化铪 HFO2 氧化铪 铪氧化物 光学镀膜材料，二氧化铪颗粒 高纯二氧化铪烧结
化学符号：HfO2
外观：白色
分 子 量：210.49
密度：9.7g/cm3
熔点：2500℃
折 射 率（波长/nm）：1.9-2.1（300）
1.84-2.0（2500）
沸点：5400℃
线膨胀系数：5.8×10-6/℃（250-1300）
10ˉ4真空下蒸发温度为：2500℃
蒸发方式：电子束
透明波段/nm：235-2500
介电常数：20.5-23
比容：0.05μF/cm2
电容温度系数TCC：（1.25～2.50）×10-4/℃
性 能：适于电子枪蒸发，成膜致密稳定。紫外波段的优良材料。不溶于水，耐化学性质，但在高温下能与氢氧化物起反应，膜坚硬；
应 用：主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近红外多层膜。
HfO2薄膜是一种绝缘氧化物，即可做薄膜电阻，又可做介子薄膜，一般用溅射法沉积制备。