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不惧他国百般阻挠,国产光刻机在艰难中砥砺前行!

放大字体  缩小字体 发布日期:2020-01-08  来源:来自互联网  作者:来自互联网  浏览次数:975
导读

荷兰ASML公司生产的光刻机代表了当前领域的最高工艺,但是受制于生产数量的限制,即便是有钱也很难买到或者说是预订到ASML公司生产的光刻机。即便美国将来在芯片产业上实施封锁,我国芯片制造产业也能够拿出自…

“极客谈科技”,全新视角、全新思路,伴你遨游神奇的科技世界。

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半导体芯片产业较为落后一直是我国的一大心病,正因为如此,美国才能够肆无忌惮的通过芯片来打压我国优秀的科技公司(华为、中兴等)。美国不仅仅是限制本国企业那么简单,甚至插手第三国企业,要求获得美国许可之后才能够与中国合作。最核心的原因在于中国的高速发展已经令美国感到恐惧,5G网络上的失败使得美国更加不愿放弃在半导体产业上的优势。

那么,当前我国半导体产业的发展受到了哪些限制,国内光刻机的发展究竟到了那种地步呢?

先从中芯国际购买荷兰ASML公司的光刻机谈起

荷兰ASML公司生产的光刻机代表了当前领域的最高工艺,但是受制于生产数量的限制,即便是有钱也很难买到或者说是预订到ASML公司生产的光刻机。光刻机是半导体制造的核心设备,例如给华为麒麟处理器代工的台积电就是ASML公司最大的客户,台积电每年几乎垄断了ASML公司生产光刻机一半的订单。

2018年中芯国际突破重重限制和困难终于以1.5亿美元的价格从ASML公司订购了一台EUV(极紫外光刻机)。这台光刻机本应该在2019年年底交货,期间发生了一些事情,导致这台光刻机未能够按时交货。其中包括ASML公司上游的硬件供货公司突然发生火灾,并且美国也在不断地对荷兰进行劝说,力度拖延ASML公司给中国的供货时间。

依靠外部购买最新技术始终不是长久之计,我国自研的光刻机究竟发展至一个什么水平了呢?

我国光刻机的发展现状

说到光刻机不得不谈到SMEE这家公司,该公司生产的SSX600系列光刻机可以实现90nm的工艺制程。中芯国际已经具备了14nm工艺制程的能力,现在已经进入到了客户风险量产阶段,甚至12nm工艺制程也进入了测试阶段。武汉光电国家研究中心在自研的光刻胶上也有了新的突破,已经能够用二束激光光刻出9nm工艺制程的芯片!

虽然我国在高端芯片的生产上确实存在一定的差距,但是中低端芯片已经具备了生产的实力,芯片自给率有望提升至40%。随着中芯国际光刻机的到货,相信我国不久就能够掌握7nm工艺制程的能力,缩短我国与全球顶尖芯片公司之间的差距。即便美国将来在芯片产业上实施封锁,我国芯片制造产业也能够拿出自己的“备胎”计划,打破美国的科技霸权。

关于我国芯片产业的发展,您怎么看,未来是否能够反超美国?

欢迎大家留言讨论,喜欢的点点关注。

 
 
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