光刻机的技术难度在于“技术封锁”，一台顶级的光刻机关键设备来自于西方发达国家，美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承、法国的阀件等，这些顶级零件对中国是禁运的。所以，ASML曾说“即便给你们全套图纸，你们也造不出来”。

光刻机是“人类智慧集大成”的产物
环顾全球，最先进的7nm EUV光刻机只有荷兰的ASML（阿斯麦）能够生产，超过90%的零件向外采购，整个设备的不同部位同时获得了全世界最先进的技术，因此可以在日新月异的芯片制造业取得竞争优势。

最顶尖的光刻机集合了很多国家的技术支持，是多个国家共同努力的结果，德国为ASML提供了核心光学配件支持，美国为ASML提供光源支持及计量设备的支持，ASML要做的就是做到精确控制。7nm EUV光刻机包含了5万多个零件，13个系统，误差分散到13个分系统中，德国的蔡司光学设备不精准，美国的Cymer光源不精，都可能造成很大的误差。
与德国、瑞典、美国等一些西方国家相比，我国的芯片制造以及超级精密的机械制造方面不具备什么优势，没有超级精密的仪器，自然就很难造出顶级的设备，无法造成顶级的芯片。最关键的是，这些超级精密的仪器根据《瓦森纳协定》对中国是禁运的。

国产光刻机的“差距”
目前国内技术领先的光刻机研制厂家是上海微电子装备有限公司（SMEE），可以稳定生产90nm制造工艺的光刻机，相比ASML的7nm制程差距还是比较大的，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。同样正是SMEE推出90nm制程的光刻机后，ASML对中芯国际的7nm光刻机订单放行，其中的奥妙大家不难想象。

既然国产光刻机与国外差距那么大，可以通过购买的方式解决吗？答案是很难，有钱买不到。
原因1：只有投资了ASML的，才能获得优先供货权，而英特尔、三星、台积电拥有ASML很大的股份。ASML的高端光刻机产量有限，2018年18台，2019年30台，其中台积电获得了18台，我国的中芯国际1台。
原因2：《瓦森纳协定》的限制，瓦森纳协定有33个成员国，中国不再其列，主要目的是阻止关键技术和远见流失到成员国之外，在半导体领域，受限于该协定，在芯片制造、封装、设计等方面，我国一直无法获得国外最新的科技。
